多靶聚焦磁控溅射镀膜机

所属分类：镀膜系统
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发布时间：2024-04-20 13:59:47

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产品概述

三靶聚焦共溅射镀膜系统，可以满足多组份或多层金属和化合物溅射镀膜，样品台同时具备公转和自传功能，样品台直径200mm样品，镀膜有小区直径180mm，薄膜厚度均匀性达到5%，靶材利用率达到30%以上。强磁场设计，可以满足铁磁材料溅射。溅射阴极主体采用聚四氟乙烯设计，优化水冷设计，可以满足大功率密度溅射，成膜速率提高30%以上。

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