设备采用增强型磁控阴极弧或非平衡磁控溅射技术，采用国际先进的阴极。该系列的涂层设备可提供的硬质涂层包括：TiN、TiAIN、CrN和CrAIN等，广泛应用于刀具、工具/模具和有高耐磨要求的零部件。
本涂层设备具有良好稳定性和高度自动化程度，带有成熟的金属陶瓷涂层工艺。开放式的用户界面也为用户根据自身要求独立开发工艺提供了可行性。
l PVD沉积技术：增强型磁控阴极电弧或非平衡磁控溅射;
l 2~20um厚各种金属陶瓷类涂层工艺;
l 涂层沉积工艺气体：N2，Ar，CH4;
l 控制方式：PLC加工业PC全自动控制。
l 刀具、工具/模具;
l 耐磨减磨应用的各种零件。
